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蒸镀是物理气相沉积的一种 ，与溅射镀膜和离子镀膜相比有其优缺点：设备简单可靠 ，工艺易于掌握 ，可以大批量生产 ，蒸镀的机理简单 ，大大都物质都可以接纳真空蒸镀 ；而镀层与基材结协力差 ，高熔点物质和低蒸气压物质的镀膜制作难度大 ，关于铂、铝等金属来说 ，蒸镀物质所用的坩埚质料也会蒸发 ，混入蒸镀物质中成为杂质。
真空蒸镀：真空蒸镀是指通过蒸镀工艺 ，将某种物质在真空中加热蒸发 ，使其沉积于基材外貌 ，从而获得薄膜的一种技术� ；臃⒑蟮奈镏式凶稣舳浦柿�。法拉第于1857年首次提出蒸发式镀膜工艺 ，经过一百多年的生长 ，现在已经成为镀膜工艺的主流技术之一。通常 ，真空蒸镀系统包括三个部分：真空室、蒸起源或蒸发加热装置、基片安排和给基片加热装置。为了蒸发真空中的待沉积物质 ，需要一个容器来支持或装入蒸发物 ，同时还需要提供蒸热以使蒸发物抵达所需的蒸汽压。
蒸镀历程中各组分均匀度禁止易包管 ，天津真空 ，具体可调理因素同上 ，但由于原理限制 ，关于非简单组分蒸镀而言 ，各组分均匀度较差。溅射法镀膜可简单理解为利用电子激光或高能激光轰击靶材 ，将外貌组分以原子团或离子的形式溅出 ，并最终沉积在基体外貌 ，经过成膜历程 ，最后形成薄膜。在真空镀膜机中 ，溅射镀膜又分为多种类型 ，与蒸发镀膜差别的是溅射速率是其主要参数之一。
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