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D.M.Mattox于1963年提出真空离子镀膜,并起头尝试。一九七一年,Chamber等颁布了电子束离子镀技术,一九七二年,B汇报了反映蒸发镀技术,并造作了TIN和TIC超硬膜。统一年,MOLEY和SMITH将中空阴极技术利用于镀膜。二十世纪八十年代,国内又相继出现了多弧离子镀和电弧放电高真空离子镀,至今已达到工业利用水平。

离子镀膜的道理和类型:
在真空室中,离子镀是利用气体放电或被蒸发物质部门分离,在气体离子或被蒸发物质颗粒轰击的同时,将蒸发物或反映物沉积在基片上。离子体电镀将辉光放电景象、等离子体技术与真空蒸发有机结合,不仅能够显著提高膜的质量,并且能够扩大膜的利用领域。其利益是膜附着力强、绕射性好、膜材宽泛等。D.M.初次提出离子电镀道理,工作过程如下:
首先,将真空室抽到4×10(-3)帕以上的真空度,而后打开高压电源,在蒸发源和基片之间成立低压气体放电的低温等离子区;缂谓5KVDC负高压,形成辉光放电阴极;怨夥诺缜亩栊云謇胱咏胍跫登,被电场加快,轰击基片表表进行洗濯。而后进入涂层过程,加热使涂层气化,原子进入等离子区,与惰性气体离子和电子碰撞,少数产生离化。离子和气体离子以更高的能量轰击涂层表表,从而提高涂层质量。
离子镀层种类繁多,蒸发源加热方式有电阻加热、电子束加热、等离子电子束加热、高频感应加热等。
然而,多弧离子电镀与通常离子电镀有很大分歧。多弧离子电镀选取弧放电,而不是传统离子电镀的辉放电。简而言之,多弧离子电镀的道理是将阴极靶作为蒸发源,通过靶与阳极壳之间的弧放电蒸发靶材,在空间中形成等离子体,沉积基体。

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