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多职能真空镀膜机是磁控溅射、多弧离子镀膜和蒸发镀膜的混合设备 。在多弧离子镀膜机的基础上，配以圆柱形靶材或平面磁控管靶材 。该设备拥有离子镀的高电离率和高堆积速度的特点 。它还拥有低和善磁控溅射不变性的利益 。合用于各类复合膜的电镀 。
多职能真空镀膜机：磁控管、中频、多弧离子镀膜
① 发汗磁控溅射混合设备：多职能，适合批量出产，适应性强 。
② 磁控溅射与多弧离子镀的混合利用：多弧可提高火炮洗濯质量，增长薄膜与基体的附着力 。与磁控溅射结合，能够造备复合膜（高能离子源洗濯活化，成膜速度快） 。
③ 多中频磁控溅射靶与柱弧离子镀的混合利用：中频靶更不变（如铝），电离率高，堆积速度快，成膜均匀 。如反映溅射，如镀SiO2、TiO2等，用分歧的原资料多层镀膜 。
④ 射频、直流、中频、柱弧混合利用：射频可直接涂覆绝缘；つiO2/Ag/SiO2
⑤ 圆柱弧、中频弧和多弧混合利用：圆柱弧确保高电离率，削减大颗粒的积累，拥有优良的附着力和表表光洁度 。多职能真空镀膜机合用于表带、表壳、眼镜架、手机壳、高尔夫工具、卫浴、首饰等中高档产品 。
改进措施：
一是加强脱脂去污处置 。若是是超声波洗濯，应正视脱脂职能，保障脱脂液的有效性；若是是手搓，能够思考用碳酸钙粉擦拭后再洗濯 。
二是镀前加强烘烤 。若是前提允许，基板温度比力好维持在300以上℃ 维持20分钟以上，以便尽可能多地挥发基材表表的水蒸气和油蒸气*注：温度越高，基材的吸附容量越大，且容易吸附尘埃 。因而，应提高真空室的清洁度 。不然，镀前会有尘埃附着在基体上，不仅会造成其它缺点，还会影响膜层强度（基体上水汽的化学脱附温度在260以上）℃ 在真空中 。但并非所有零件都必要高温烘烤 。一些硝酸盐资料在高温下膜强度较低，会出现色斑 。它与应力和资料热匹配有很大关系 。
3.在前提允许的情况下，机组建设PolyCold，不仅能够提高机组抽真空速度，并且有助于去除基体上的水蒸气和油气 。
四是提高蒸发真空度 。对于1米以上的涂布机，蒸提议始真空杜爪大于3*10-3pa 。涂布机越大，起头蒸发的真空度越高 。
5.在前提允许的情况下，在机组内装置离子源，镀前进行轰击，洗濯基体表表，辅助涂装工艺，有利于镀层的致密性和牢固性 。
六膜资料除湿，将造就皿中使用的膜资料放入真空室中干燥 。
7.维持工作环境干燥（蕴含擦拭镜片和雨伞工作区），清洁工作环境时不要带入过多的水蒸气 。
8.对于多层膜，在设计膜系时，应试虑第1层膜与衬底的匹配，尽量思考使用对大无数衬底拥有优良吸附能力的Al2O3膜资料 。对于金属膜，也能够思考第1层Cr或Cr合金 。铬或铬合金对基体也有优良的吸附能力 。
9.用抛光液（抛光液）去除镜片表表的侵蚀层（水解层）
同时，降低蒸发速度有利于提高膜的强度和膜的表表光洁度 。
② 薄膜应力：
薄膜的成膜过程是物质状态转变的过程 。成膜后，薄膜中不成预防线会产生应力 。对于多层膜，膜资料有分歧的组合，每个膜所反映的应力分歧，有的是拉应力，有的是压应力，还有膜与基体的扰爪力 。
应力的存在对薄膜的强度是有害的 。轻的是薄膜不能抵抗摩擦，重的是薄膜分裂或网状通路 。
对于减反射膜，由于层数较少，应力不显著，高反射膜和多层滤膜的应力是常见的不利成分，应出格把稳 。
改进措施：
烘烤后电镀，烘烤后最后一层薄膜，不要立即终场，持续10分钟“回火” 。薄膜结构趋于不变 。
二是适当耽搁冷却功夫，进行退火时效 。降低真空室内表温差大引起的扰爪力 。
三对高反射膜和滤膜在蒸发过程中基板温度不宜过高，温度过高容易产生扰爪力 。对氧化钛和氧化钽薄膜的光学不变性也有负面影响 。
3.离子辅助涂层工艺，降低应力 。
第四，选择相宜的膜系匹配，第1层膜材与衬底匹配（例如，五层减反射膜为al2o3-zro2-al2o3-al2o3-zro2-mgf2；ZrO2也能够使用sv-5（一种ZrO2-TiO2混合薄膜资料）或其他混合高折射率薄膜资料 。 。
5.适当降低蒸发速度（al2o3-2.5a/s；ZrO2-3A/S；Mgf2-6a/S（参考速度）
六对氧化膜资料均为充氧反映镀，并凭据分歧的膜资料节造氧气进气量 。
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