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真空镀膜技术是指在真空情况下 ，以气相的形式在质料(通常为非金属)外貌沉积金属或金属化合物 ，属于物理气相沉积技术。因为涂层通常是铝、锡和铟等金属的薄膜 ，所以也称为真空金属化。真空镀膜的作用主要是付与被镀膜件外貌高的金属光泽和镜面效果 ，特别是在汽车灯罩中 ，其次是付与涂层优异的阻隔性能 ，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。
凭据爆发和沉积蒸汽金属的差别方法 ，真空镀膜可分为热蒸发镀膜和磁控溅射镀膜两种工艺。其中 ，磁控溅射法因其涂层与基体的附着力强、涂层致密均匀等优点而具有更多的技术优势。真空镀膜质料主要是金属和金属氧化物。金属模具涂层质料包括铝、锡、铟、钴、镍、铜、锌、银、金、钛、铬、钼、钨等 ；合金镀层质料包括镍铬、镍铁、铁钴、金银金等。金属化合物包括二氧化硅、二氧化钛、二氧化锡等。其中 ，铝的应用最为广泛。这主要是因为铝的蒸发温度低 ，操作便当 ，对塑料的附着力好 ，对紫外线和气体的阻隔性强 ，价格低廉。
真空镀膜具有多种功效 ，这决定了它的广泛应用。真空镀膜的主要作用是付与被镀膜件高的金属光泽和镜面效果 ，使膜层对膜质料具有优异的阻隔性能 ，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。真空镀膜技术是指在真空情况下 ，金属化合物以气相的形式沉积在质料(通常是非金属质料)外貌 ，是一种物理气相沉积工艺。因为涂层往往是金属膜 ，所以也酿成真空金属化。
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