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真空镀膜设备主要是指需要在高真空度下进行的镀膜，包括多种，包括多弧离子真空镀膜设备、真空离子蒸发、光学镀膜机、磁控溅射、MBE分子束外延、PLD激光溅射沉积等。真空镀膜的事情原理是薄膜在高温下蒸发，落到工件外貌结晶。因为空气会对蒸发的膜分子爆发阻力，造成碰撞，使晶体变得粗糙、昏暗，所以需要在高真空下使晶体变得细小、灼烁。真空度不高，晶体会失去光泽，结协力差。早期真空镀膜依靠蒸发物的自然散射，结合效率差，光泽度差。现在，随着中频磁控溅射靶的加入，膜体的蒸发分子在电场的作用下受到靶材的轰击，大宗的靶原子被溅射出来，中性的靶原子(或分子)沉积在衬底上形成薄膜，解决了以往自然蒸发无法处理的膜体品种，如镀钛、镀锆等问题。
目前，真空技术在石油、化工、冶金等行业的真空蒸发、结晶、蒸馏、升华、干燥、负压浓缩、脱水、化学反应吸收和真空输送历程中的应用越来越广泛。真空技术应用于种种加工工艺后，可以节能降耗，加速反应速度，提高产品质量，增加经济效益，并逐渐形成共识。但真空技术是一门边沿科学，解放后中国的真空工业消化吸收了。蒸汽喷射真空泵具有高真空、低能耗、运行稳定、无机械摩擦、使用寿命长、设备宁静等优点。在高真空要求的事情系统中，蒸汽喷射真空泵通常是选的真空泵设备。
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