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磁控溅射镀膜是一种先进的外貌装饰镀膜技术。将薄膜质料制成阴极圆柱形磁控管旋转靶，置于镀膜室中心，在电压(DC或脉冲)作用下，通入事情气体爆发真空辉光放电，在360℃辐射镀膜。靶材利用率高，事情温度低，可用于在金属或非金属(塑料、玻璃、陶瓷等)上镀铝、铜、铬、镍、钛、金、银和不锈钢薄膜。)工件。通过引入反应气体可以镀制种种复合膜。该涂层具有均匀、致密、附着力强、衍射好的特点，广泛应用于家电、钟表、工艺品、玩具和车灯
涂覆靶是一种溅射源，其在适当的工艺条件下通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的涂覆系统在基底上形成种种功效膜。简单来说，靶材就是高速带电能量粒子轰击的靶材，用于高能激光武器。当差别功率密度、差别输出波形、差别波长的激光与差别目标相互作用时，会爆发差别的杀伤和破坏效果。好比蒸发磁控溅射镀膜就是加热蒸发镀膜，铝膜等。通过更换差别的靶材(如铝、铜、不锈钢、钛和镍靶材等。)，差别的膜系(如超硬、耐磨、耐腐化合金膜等。)即可获得。。目标接纳具有本钱低、密度高、防潮性强、耐腐化、环保等特点。
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