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磁控溅射技术是一种起源于较早的技术，但仍可以发挥重要作用。其优越性不但体现在涂料上，还渗透到各个行业。今天，我国溅射技术水平与以前相比有了重大突破。随着时代的进步和现代工业化生产的要求，社会对磁控溅射技术的要求越来越高。这就要求一大批科研人员继续深入探索，进一步研究和革新这项技术，提高其准确性和功效。，满足现代工业日益增长的需求，更好地为社会生长和科学进步做出孝敬。
目前，磁控溅射涂层的研究越来越频繁。磁龙溅射是低压下高速溅射，必须有效提高气体的电离率。一种通过引入目标阴极外貌的磁�。么懦∠拗拼缌Ｗ永丛黾咏ι渌俾世丛黾拥壤胱犹迕芏鹊囊�。利用外部磁场捕获电子，扩展和抑制电子的运动路径，实现高电离率，提高镀膜率。
在磁龙目标的溅射涂历程中，由于磁控器目标的阴极阳极距离被确定为基本恒定值，事情气体的压力可能在一定规模内变革（例如，0.1Pa~10Pa）。燃烧电压影响较大，变革的一般趋势是：随着事情气体压力的逐渐增大，磁控目标燃烧电压也相应降低。差别质料的差别磁控目标和目标具有差别的事情气体压力，用于目标燃烧。
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