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激光溅射镀膜中 ，身分均匀性容易坚持 ，而原子标准的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射) ，晶体偏向(外缘)生长的控制也比较一般。真空镀膜设备的具体操作请参考设备说明书、设备上仪表盘的指针显示和各旋钮下的标签说明。检查真空镀膜机的操作控制开关是否处于“关闭”位置。从我国现有的涂装生产线来看 ，主要保存以下问题:设计水平不高 ，我国对涂装设备的研发投入未几 ，先进成熟的涂装设备很少占领市场。纵然是海内自己建的涂装生产线 ，生产线上的一些要害设备也是进口过多。海内一些基础元器件和控制元器件质量很差 ，经不起恒久考验。
物理镀膜主要包括真空镀膜、等离子镀膜、离子束辅助沉积(IAD)和化学气相沉积(CVD)。用这种要领沉积的薄膜均匀 ，致密性好。人们已经使用这种要领来沉积具有一定功效和优异机械和光学性能的薄膜。可是这种要领需要严格的涂装设备和工艺条件 ，所以本钱较高。再者 ，塑料的耐热性差 ，并且这种要领对温度的要求更高、更长 ，所以对它的应用较少 ，只对玻璃适用。
在真空镀膜、金属镀膜、玻璃镀膜、导电膜生产领域 ，温度控制很是重要 ，专用镀膜设备冷却设备是必不可少的 ，用于控制冷却水循环 ，将设备爆发的热量通过冷却管道水流带回设备进行冷却 ，循环制冷抵达冷却设备的目的。
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