真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是基于真空技术,接纳物理或化学要领,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的新工艺.简而言之,将金属、合金或化合物在真空中蒸发或溅射,使之凝固并沉积在涂覆物(称为基体,基片)上的要领,即真空镀膜。
真空镀膜的作用主要是使镀膜外貌具有高的金属光泽和镜面效果,特别是汽车灯罩,具有很是重要的聚光效果;其次,使镀膜外貌具有极好的阻隔性,提供优良的电磁屏蔽和导电效果。凭据气相金属生成方法和沉积方法的差别,真空镀膜分为两种工艺:热蒸发镀膜法和磁控溅射镀膜法。而磁控溅射法由于镀层与基体结协力强,镀层致密、均匀,因而更具技术优势。负压电镀工艺是指在真空情况中,某些金属或金属化合物以气相的形式沉积到质料外貌(通常是非金属),属于物理气相沉积工艺,由于镀层通常是铝、锡、铟等金属的薄膜,所以又称负压金属化。
真空膜是指要求具有较高真空度的薄膜,特别是真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延、PLD激光溅射沉积等。磁控溅射靶在真空镀膜历程中,由于发射时温度较高,会使射出变形,所以它有一个水套来冷却射。但要包管套管内水温不受情况温度和自然温度的影响,通常需要借助冷水机组实现真空镀膜机组的冷却冷却。专用真空镀膜冷水机,可稳定水温在5℃~30℃,调理可控,可有效控制镀膜温度,提高镀件质量。
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