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无论监视器的精度如何，只能控制真空室单点位置的薄膜厚度，一般是工件架的中间位置。如果真空电镀设备这个位置的薄膜厚度不均匀的话，远离中心位置的基得不到均匀的厚度。屏蔽罩可以消除恒久的不均匀性，但有些薄膜厚度的变革是由蒸起源的不稳定性和薄膜材的差别体现引起的，因此险些无法消除，但真空室结构和蒸起源的适中选择可以大限度地减少这些影响。
近年来，越来越多的用户要求镀膜系统制造商提供高性能的小规格、简单的光学镀膜系统，同时，用户对性能的要求不但没有下降，还提高了，特别是在薄膜密度和吸水后的光谱变革最小化等方面。
目前，系统平均尺寸规格已经下降，使用小规格设备进行光学镀膜的生产也成为纯技术问题。因此，选择现代化光学涂层系统的要害是认真考虑涂层产品的期待性能、基础尺寸和物理特性以及包管高度一致性技术所需的所有技术因素。
设备的优劣决定了镀层的质量吗？
设备的优劣决定了镀层的质量吗？电镀机凭据一定的技术要求组合了相关的控制装置、电镀槽、电镀室、真空情况、过滤设备、电源设备、检测设备、加热冷却装置等部件，为了实现整个技术流程，通过良好的设备可以提高产品电镀的生产效率和质量。
真空电镀生产中使用生产原质料加入酸、碱的腐化性物质许多，设备长时间在这样的事情情况下运行，不可制止线路腐化、润滑下降等问题，长时间设备稳定性下降，电镀膜受到一定水平的影响，设备停止事情。
好的设备更耐用、更稳定:电镀设备适用于金属、木材、水泥、塑料、陶瓷、树脂、陶瓷、丙烯酸、磷镁等种种质料，广泛应用于电器、玩具、手机、汽车、电脑、工艺品、饰品、家具等硬涂层行业等。
好的真空镀膜设备的镀层质量会更高，关于同样的工艺，同样的镀层使用时间会更短，切合质料的涂层结合会更牢固、明亮、均匀、致密、连续，大幅度降低本钱。
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