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IBS是一种精准的，重复强的技术性。光学真空镀膜机等离子磁控溅射是一系列技术性的统称，例如高級等离子磁控溅射和磁控管溅射。无论是哪一种技术性，都包括等离子的造成。
等离子中的正离子经加速射进源原质料中，碰撞疏松的能量正离子，随后磁控溅射到总体目标光学元器件上。尽管纷歧样种类的等离子磁控溅射具备其特有的特性和优点和缺点，可是我们可以将这种技术性结合在一起，由于他们具备相同的原理，他们中间的差别，比照这类表层的镀膜技术性与文中中涵盖的别的表层的镀膜技术性中间的差别小得多。
与挥发聚集纷歧样，用以分子层聚集（ALD）的源原质料不必从液体中挥发出去，反而是立即以空气的方法存有。虽然该技术性应用的是汽体，真空系统中依然必须很高的溫度。在ALD全历程中，气相色谱前驱体凭据非交叉式的单脉冲开展传送，且单脉冲具备自约束性。这类加工工艺有着与众差别的化学性能设计计划，每一个单脉冲只黏附一层，并且对光学件表层的几何图形样子沒有特别要求。因而这类加工工艺促使我们可以相对高度的对涂层薄厚和设计开展利用，可是会减少聚集的速度。
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