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磁控溅射是指电子与氩原子碰撞 ，电离出大宗氩离子和电子 ，在电场作用下飞向衬底。它是一种利用高压电场引发爆发等离子体的涂层质料 ，险些适用于所有高熔点金属 ，因此比真空镀膜法本钱更高。但与真空镀膜法相比 ，磁控溅射法具有镀膜层与基体层结协力强、镀膜层致密均匀等优点。
真空镀膜的作用主要是付与被镀膜件外貌高的金属光泽和镜面效果 ，特别是在汽车灯罩中 ，其次是付与涂层优异的阻隔性能 ，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。凭据爆发和沉积蒸汽金属的差别方法 ，真空镀膜可分为热蒸发镀膜和磁控溅射镀膜两种工艺。其中 ，磁控溅射法因其涂层与基体的附着力强、涂层致密均匀等优点而具有更多的技术优势。真空镀膜技术是指在真空情况下 ，以气相的形式在质料(通常为非金属)外貌沉积金属或金属化合物 ，属于物理气相沉积技术。因为涂层通常是铝、锡和铟等金属的薄膜 ，所以也称为真空金属化。
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面。它以真空技术为基础 ，接纳物理或化学要领 ，吸收电子束、分子束、离子束、等离子体束、射频和磁控等一系列新技术 ，为科学研究和实际生产提供薄膜制备新技术。简而言之 ，金属、合金或化合物在真空中蒸发或溅射 ，以固化和固化在涂覆的物体上(称为基底和衬底)
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