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磁控溅射真空镀膜机
磁控溅射 法是一种 涉及 气体 等离子体 的沉积 技术 ，爆发 的等离子 气被限制 在含有 待沉积 物质 的空间里 ，而溅射靶 的外貌 被等离子体 中的高能 离子 所侵蚀 ，这些 等离子体 释放 的原子 穿过 真空情况 ，再沉积 到基片 上形成 薄膜 。
(1)无论 熔化 温度 如何 ，险些 所有 质料 都可 通过 磁控溅射 法沉积
(2)可凭据 基材 和涂层 的要求 调解 光源 ，并将其安排 在腔内的任何 位置
(3)可沉积 合金 和化合物 的薄膜 ，但身分 与原质料 相似
5、在玻璃深加工工业中的应用
磁控制 溅射 膜的注意事项
辐射 ：一些 镀膜 用到 射频 电源 上，如功率 大，须作屏蔽 处理 .别的 ，欧洲标准的单室 镀膜机 门框 内嵌 装金属线 以屏蔽 辐射 。
2、金属 污染 ：镀膜 质料 (如铬、铟、铝等)对人体 有害 ，尤其 要注意 真空室 清理 历程 中爆发 的粉尘 污染 。
3、噪音污染 ：如特别 是一些 大型 镀膜设备 ，机械 真空泵 噪音 大，可将泵阻遏 于墙外 。
4、光污染 ：离子 镀膜 历程 中，气体 电离 放出 强光 ，不宜 长时间 透过视察窗久看.
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